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工程概况
EDI的研究已有40年的历史，国外称电去离子法（Electrodeio—nization简称EDI），由于它是一种连续去离子过程，所以又称连续去离子法（Continuous Deionzation简称CDI），我国称填充床电渗析。直到1987年美国Millipore公司才推出了名为“IonpureTMCDI”的商品型EDI膜组件，1990年又推出了改进的商品组件。其后美国的Filter和Ionces公司、加拿大的GLegg和E-Ceel公司以及日本的旭化成公司都相继推出EDI的商品型组件及系统，到1995年底，已有近1000套EDI系统在世界各地运行，估计今后会有更快的发展，前景极好。
二、设计原始资料
EDI的原水通常都是RO或EDR的产水。EDI的产水为电阻率15～18MW·cm的高纯水。EDI的进水指标如表6-24所示。
表6-24 EDI的进水指标/（mg/L）
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项 目 |
指 标 |
项 目 |
指 标 |
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TDS 电导率/（ms/cm） 硬度（以CaCO3计） SiO2 TOC |
＜5.0 ＜10 ＜1.0 ＜0.5 ＜0.5 |
余氯 Fe·Mn·HzS 压力/MPa pH值 温度/℃ |
＜0.05 ＜0.01 0.22～0.72 4～10 5～43 |
EDI装置最大产水能力为450m3/h。
三、工艺流程及主要设备
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场 所 |
水 源 |
原水TDS /（mg/L） |
水温/℃ |
产水量 /（m3/h） |
系 统 流 程 |
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GGNS ANO SNS Semi1 Semi2 Semi3 |
地表水 地表水 井水 地表水 井水 地表水 |
400 100 475 230 900 700 |
17～25 10～30 25 20 15～25 20～25 |
11.4 45.4 45.4 11.4 22.7 22.7 |
DMF-C/F-UF-EDR-RO-EDI DMF-C/F-UF-EDR-RO-EDI UF-RO-EDI 滤筒-UF-RO-EDI DMF-脱气UFROEDI UF-RO-EDI |
四、运行情况
现介绍EDI在三个核电站和三个半导体器件厂的运行情况。这些厂都是美国的，产水能力为11.4～45.4m3/h。
三个核电站是GGNS（Grand Gulf核电站）、ANO（Arkansan Nucler One）、SNS（Seabrook核电站）。
三个半导体器件厂是 Semi 1（A New England 半导体器件厂）、Semi 2（A midwest半导体器件厂）、Semi 3（A Arizona半导体器件厂）。
它们的运行情况及系统流程如表6-25所示。EDI的进水水质如表6-26所示。
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组成 |
GGNS |
SNS |
Semi1 |
Semi2 |
||||
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进水 |
出水 |
进水 |
出水 |
进水 |
出水 |
进水 |
出水 |
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Na+ Ca2+ Mg2+ Cl- SO42- CO2 SiO2 去除率/% CO2 SiO2 |
2920 640 |
17 3 99.4 ＞99.5 |
1210 165 痕量 528 157 5910 170 |
2.4 2.5 ND ＜2 ＜2 ＜10 40 ＞99.8 76.5 |
289 158 ND 140 285 2800 208 |
＜2 ＜0.5 ND ＜2 ＜4 ＜10 89 ＞99.6 57.2 |
1710 320 160 2200 1100 3260 86 |
＜2 ＜0.5 ＜5 ＜2 ＜4 ＜10 ＜2 ＞99.7 ＞97.7 |
经半年运行考验，所有装置都能生产稳定水质的高纯水，去除率在99％以上。也能去除SiO2而不必加化学添加剂。
五、经济效益
（1）占地面积小，省去再生系统。
（2）产水水质稳定，而交换柱失效时水质变差。
（3）EDI设备投资费及运行费用低。
（4）EDI不需要备用单元，而离子交换需要备用柱。
（5）EDI使用寿命4年。
