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怎样确定阴床是否失效?
OH型强碱阴离子交换树脂，对水中常见酸根阴离子的交换能力是不同的。按交换能力的大小，排列顺序为SO；一>cl一>HCO。一>HSiOf>OH一。利用OH型强碱阴树脂的这一特性，可以确定阴床的失效点。当H+水通过阴床时，水中的SO；一首先被吸附，然后是C1一，再次是HSiOf，最后被吸附的才是HSiof。也就是说，只要交换能力最弱的HSiOf没有“漏泄”出来(即阴床出水中。HSiOf含量低于控制标准)，阴床就没有失效。OH型强碱阴离子交换树脂失去交换能力，首先表现在它不能吸附水中的HSiOf了。所以当阴床出水中HSiof含量上升，并超过标准时(一般规定阴床出水HSiOf应小于100斗g／L)，即可以认为阴床失效了。
阴床失效时，为什么出水电导率会出现一个“先略下降，然后上升”的情况?
阴床的入床水是经阳床交换，再经除碳器除碳后的“酸性水”。水中含有大量的强酸(H2S04、HCI)及弱酸(H2SiO，及微量的C02)，其含量与水中阳离子相同。
当阴床正常运行时，水中的酸根离子被树脂吸附，水中的H+与交换下来的OH一生成离解度很低的水，而阳床“漏泄”的微量Na’则与OH一生成微量的NaOH。所以阴床正常运行时，出水pH在7—8之间，HSi03-小于100gg／L，出水电导割、于50z／cm。
当阴床失效时，按交换顺序，首先产生HSiOf的“穿透”，并与水中的№’生成离解度较小的NaHSi0，。因此阴床出水pH明显下降。同时由于NaHSi03的导电能力要低于NaOH，所以此时出水的电导率也会“略有下降”。
当HSiOf继续“穿透”，其量超过水中Na量时，水中就会出现H2Si03，此时由于H’的电导能力较大，所以此时阴床出水的电导率又会“略有上升”。
随着阴床失效程度的加剧，H2SiO。、HCOf、以至于cl一、SO：一也陆续产生“穿透"，“穿透”量随失效程度的加大而逐渐加大。这又会使阴床出水电导率急剧上升。因此阴床失效时的电导率变化会出现一个“先略下降，而后上升”的情况。掌握阴床出水电导率的这种“先降后升”的特殊变化，有助于对阴床失效进行监督。
阴床出水HSiOf含量偏高的原因是什么?如何处理?
阴床出水中HSiOf含量偏高，除了与进水中Na+含量有关外，与再生状况(再生用碱量，浓度，纯度等)及树脂状况等也有关系。
(1)再生用碱量 阴床再生有两个特点：一是由于不像其他离子，虽然对阴树脂的亲合力较低，但从阴树脂排出时，会发生聚合。因此必须用NaOH使聚合物溶解，才能将HSiOf从树脂层洗脱下来。而洗脱这种聚合HSiOf的效果与再生用碱量，特别是保护层的用碱量有关。二是由于HSiOf在整个树脂层分布较广，被置换下的速度又比较缓慢，所以需要较的再生时间。
因此，适当的再生剂用量，不仅能提高阴树脂的交换容量，而且除硅效果也有显著提高。试验证明：只有NaOH用量达到一定比耗时，才能达到比较彻底的除硅效果。用碱量不足，则可能由于除硅不彻底而使阴床出水中HSiOf的含量偏高。
(2)再生液浓度偏高 再生液浓度对阴床的除硅有两个作用：一是由于强碱性阴离子交换树脂的活动性总的说来较弱，所以在电解质浓度较高的溶液中，其双电层易受压缩，再生液中的OH一就很难将阴树脂上吸附的HSiOf置换得很彻底。二是当再生液浓度较高时，再生液体积则相对的小，与树脂接触时间也短，再生不易充分，这样也会影响阴床对HSiOf的去除，致使出水中HSiOf含量偏高。
当采用较稀的再生浓度(O．2％～O．5％)或两步再生时，由于阴离子交换树脂的双电层有所扩张，OH一就可以较充分地将HSiO，置换下来，除硅效果也好。
(3)再生剂纯度低NaOH纯度对阴树脂的再生过程影响较大。工业碱中的杂质大部分为氯化物和铁的氧化物。由于强碱阴树脂对Cl一有较大的亲合力，所以不宜用含有较多Cl一的碱来再生。因为Cl一不仅易于被树脂吸附，而且不易被洗脱下来。当使用含较多Cl一的碱再生时，会使树脂的工作交换容量降低，出水HSiOf含量偏高。
铁的氧化物则会因其在碱中水解而形成沉淀，而污染了阴树脂。
(4)再生液温度 提高再生碱温度，可以改善对HSiOf的再生洗脱，并明显降低阴床出水中HSiOf的漏泄量。因此维持适当的再生液温度对降低阴床出水中的HSiof含量有好处。
但是再生液温度过高，易使阴离子交换树脂的交换基团分解，影响交换容量和使用寿命。
实践证明：再生和洗脱HSiOf的最佳温度为35～40~C
(5)阴树脂被有机物污染 由于强碱性阴离子交换树脂的抗污染能力较差，在运行中受到腐植酸等有机物的污染后会影响对HSiOf的去除，导致阴床出水中HSiOf的含量偏高。
为了防止有机物对强碱阴树脂的污染，应采取相应的去除有机物措施。水在人床前先通过预处理，可除去水中绝大部分有机物。也可以采用活性炭处理或用加氯分解有机物等方法。
(6)Si02在床层中析出 Si02的生成和析出，与再生条件不当有关。一般认为，再生剂用量少，再生液浓度高和再生液流速低等，都可能使HSiof以胶体状从水中析出，沉积在树脂层中。
这是因为：随着再生过程的进行，OH一不断地被交换到树脂中去，而再生液中的HSiOf越来越多。这样在再生液向下流动的过程中，由于再生液：pH的降低，则可能由于吸附着的HSiof间的聚合和部分脱水，而形成Si02的高聚物而沉积于树脂层中。
防止Si02在床层中的沉积，必须注意再生条件(再生剂用量、浓度、流速和温度等)。试验证明：当pH<10时，温度对Si02的洗脱影响不大；当pH>10时，提高温度，可以明显地提高对Si02的洗脱效果。
对于可能产生Si02的阴床，可先进行较为彻底的反洗，然后采用1％NaOH以较快的流速再生，再采用3％～4％NaOH溶液以较慢的流速再生。
